檢索結果:共3筆資料 檢索策略: "Thin film".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="陶金靶材"
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本研究先利用RF磁控濺鍍法在低沉積溫度下製備出MoSx-Ag薄膜,接著分別以RF磁控濺鍍法以及電化學沉積法進行第二層的披覆改質,主要目的是希望讓酸性電解中有優異析氫能力的MoSx,能夠經第二層表面批…
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本論文以實驗室自行壓製陶金靶材,採用RF反應式濺鍍法及利用氮氣混入濺鍍氣體進行製備n型的CuSnSO薄膜與p型的CuSnSNO薄膜,並探討靶材中不同SnS含量比例、沉積溫度及氮元素的摻雜對於薄膜品質…
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本論文以本實驗室自行壓製陶金(陶瓷+金屬)靶材,採用RF反應式濺鍍法製備N摻雜的IGZO薄膜,以N取代O的位置,期望提高IGZO薄膜內的氮含量來提升載子遷移率及提升電性穩定性。實驗中,觀察在不同氧氣…